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正文 第642章 新一代光刻机

    渝州大学城的建设,是渝州打造科技产业高地的一个重大举措,为的就是形成产学研体系,让渝州的经济从传统的工业经济向着知识经济进行转型。

    用现代的科技知识来赋能传统的工业往更高水平进行发展。

    联合大学的是渝州大学城规划当中的一所很是重要的学校。

    渝州大学城自然不是新划一块地完全全新建设,实际上在之前的时候,这片区域内,就已经有大学了。

    渝州应用技术大学就坐落在这里。

    划定这边作为大学城,很重要的一个原因,这里地方够宽敞。

    渝州应用技术大学在这边进行建校,也看中的,就是这边面积足够大。

    另外,离城市也比较近。

    现在虽然是郊区,可过上几年时间,就会迅速的发展成为城市。

    然后市里面在规划大学城的时候,实际上也有一些其他的选择。

    陈怀庆建议啊,要把大学城给安排在城市的边缘位置。

    在十年后,大学城要发展成为城市的中心位置。

    为什么要让大学城位于城市之中呢?

    很简单的一个原因,那就是大学城在偏远的地方,那就没有办法和城市经济有机的联系在一起了。

    毕竟建设大学城就是想要形成集中的智力资源。

    智力资源实际上属于人才资源的一种,人得要聚集在一起,才是能够展现出来强大的。

    联合大学在整个大学城的高校建设当中,属于相当快速的,从决定搞到修建好,用时上极其的短。

    钱到位,市里面也是全力的支持。

    联合大学现在的发展势头上面相当之迅勐。

    现在也就是没有一个大学排名的榜单,不然的话,联合大学的排名,肯定会接连不断的上涨。

    特别在学术这块。

    陈怀庆一直以来都是觉得,大学更加适合从事基础性的研究工作。

    因为这和大学的属性是相互匹配的。

    基础性研究需要花费很多的时间,也需要超高的耐心。

    不仅仅是研究人员得有耐心,决策者也是需要有耐心。

    因为很多的基础研究,数年没有成果,那都算短的。有的十几年的坚持,依旧没有什么成果出来。

    大学里面,有着相当多的便宜甚至可以称之为免费的人力资源可以使用。

    科研民工好像特制的那些在读博士生。

    此时华国的在读博士生并不算是多,每一名博士生都属于相当精贵的存在。

    读博并不是为了提升自己的学历来为找上一份好工作作为筹码。

    此时的人读博,那真的属于准备投身于科研事业才做出的选择。

    有这些优秀的智力资源可以使用,可以在很大程度上面降低在基础研究领域的经费投入。

    当然了,最为重要的一点,还能够顺便的培养一下人才。

    像是墨塔技术研究院,那全部都是从事应用技术方面的研究,出成果那是相当快速的。

    基本长者几个月,短者十几天就能够把可商业化应用的成果给搞出来。

    可以每年花费的经费,也是相当的感人。

    要不是研发出来的技术有着超强的变现能力,都得要承受不住了。

    除了联合大学的事情之外,另外一件事情,也是让陈怀庆很是在意。

    那就是mota400光刻机。

    mota400光刻机是墨塔微电的最新之作,大量采购了国外的一些零部件,在一些核心部件上面,mota400也是有国产的部件。

    相比起mota800光刻机相比,mota400光刻机在一开始的时候,零部件的国产化率就要高出很多。

    像是mota800光刻机在刚出的时候,国产化率只有百分之二十几,而到了现在,mota400光刻机的国产化率直接是百分之四十起步的。

    提升了十几个百分点。

    这无疑来讲,是一个相当巨大的进步。

    mota400光刻机属于第二代光刻机,是mota800的升级版产品。

    可以实现最小400nm的工艺节点,当然,通过特殊的工艺制程的话,可以生产更低节点工艺的芯片。

    只不过在成本上面,可能会是稍稍贵了那么些。

    光刻机最为重要的,就是光源。

    现在采用的光源都属于深紫外光。

    第一代光刻机采用的波长436nm的g-line光源,现在的光刻机采用波长365nm的i-line光源。

    下一代光源也已经确定了,是波长248nm的krf光源。

    第四代的时候,采用波长193nm的arf光源。

    但是,已经有一个新的概念被提了出来,那就是极紫外光刻机。

    这可能很多人都不熟悉,换上一个说法:euv光刻机。每一次光源的改进,都是能够显着提升光刻机所能实现的最小工艺节点。

    只不过极紫外光刻机这个新概念被提了出来,但是却没有企业往这个上面投钱。

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    很简单的原因,极紫外光想要作为光源用到光刻上面,技术难度实在有着些过于的高了些。

    反正,这属于一个概念性的东西。

    市场上面的光刻机,还依旧的能够满足需求,大家对于这极紫外光刻机并不急着要。

    实际上,asml在1999年的时候才开始进行euv光刻机的研发工作。

    计划是通过五年时间,在2004年的时候,就推出euv光刻机产品。

    但是到了2010年才是搞出第一台euv光刻机原型机,2016年才是向下游客户正式供货。

    凭借着euv光刻机,asml也是一举成为全球光刻机领域当之无愧的最大巨头。

    光源对于光刻机的重要性,实在过于的重要了一些。

    陈怀庆也是看过一些报道,说华国在极紫外光源上面是有着突破的。

    也不知道具体情况到底如何。

    网络上面的新闻,这很多都只是看上一个乐就行。

    除了光源之外,工作台和新的光刻技术创新,也是能够提升最小工艺节点和生产效率以及产品良品率。

    此时大家对极紫外光刻机没有什么信心,可是陈怀庆却知道,这东西真的能行啊!

    所以陈怀庆已经要求墨塔微电研发euv光刻机,并且在投入上面,还不小。

    首先就是在光源技术上面,得要先研究出来大功率的极紫外光源才行。

    陈怀庆觉得,肯定没有什么问题的。

    他可是记得,米国一直在推激光武器的概念。

    然后华国的激光武器都已经可以实战化了,然后米国一下子就哑火了。

    自己提出来的概念,怎么华国给先搞了出来?

    极紫外光刻机是米国那边提出来的,为了打压霓虹的半导体行业,对于极紫外光刻机的研究,根本就不要霓虹参与进来。

    事实上,靠着美欧的能力,整个研究显得很吃力。

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